首页> 中国专利> 形成在氮化物半导体基板上的肖特基势垒二极管

形成在氮化物半导体基板上的肖特基势垒二极管

摘要

本发明提供一种形成在氮化物半导体基板上的肖特基势垒二极管。虽然当在成为HEMT的电子传输层的第一氮化物半导体层(6)与成为电子供给层的第二氮化物半导体层(8)被层叠的基板的表面上形成进行肖特基接触的阳极电极(22)与进行欧姆接触的阴极电极(20)时,会得到SBD,但是漏电流较大且耐压较低。在阳极电极(22)上,第二氮化物半导体层(8)直接接触的区域与隔着第四氮化物半导体区域(12b)和第三氮化物半导体区域(10b)而与第二氮化物半导体层(8)接触的区域混合存在。通过将第四氮化物半导体区域(12b)设为p型从而能够抑制漏电流。通过将与第二氮化物半导体层(8)相比带隙较大的氮化物半导体用于第三氮化物半导体区域(10b),从而能够将使正向电流流通的正向电压的最低值抑制为较低。

著录项

  • 公开/公告号CN105261656A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-01-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 丰田自动车株式会社;

    申请/专利号CN201510400619.6

  • 申请日2015-07-09

  • 分类号H01L29/872;H01L29/20;H01L29/205;

  • 代理机构北京金信知识产权代理有限公司;

  • 代理人苏萌萌

  • 地址 日本爱知县

  • 入库时间 2023-12-18 13:52:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-08-03

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L29/872 申请公布日:20160120 申请日:20150709

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2016-02-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/872 申请日:20150709

    实质审查的生效

  • 2016-01-20

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号