法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-03-15
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C07F17/00 申请公布日:20110126 申请日:20090213
发明专利申请公布后的驳回
2011-03-23
实质审查的生效 IPC(主分类):C07F17/00 申请日:20090213
实质审查的生效
2011-01-26
公开
公开
机译: -使用原子层沉积ALD工艺在基体上形成含钛层的方法
机译: 使用原子层沉积(ALD)工艺在基板上形成含钛层的方法
机译: 使用原子层沉积(ALD)在基板上形成含钛层的方法