法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-01-11
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/44 申请日:20160213
实质审查的生效
2018-12-18
公开
公开
机译: 用于离子注入的抗蚀剂图案的形成方法,包括在衬底上形成抗反射涂层和抗蚀剂,对抗蚀剂进行图案化以形成孔,并去除暴露于孔底的部分涂层
机译: 在涂覆的衬底上产生金属导电涂层或由金属制成的部分涂层,包括利用光照射在衬底的半导体表面的涂覆区域上涂覆由离子溶液制成的金属涂层。
机译: 使用激光涂覆衬底,包括使用沿着待测量的量规产生的激光束熔化衬底,将粉末促进到衬底上,以及将用于生产涂层的粉末部分地引入熔化的衬底中。