The University of Texas at Dallas.;
机译:甲基环戊二烯基三羰基锰在氧化硅表面的反应:对薄膜原子层沉积的影响
机译:等离子体增强原子层沉积在二氧化硅薄膜沉积过程中电场的影响:实验和计算研究
机译:HfO_2原子层在不同氧含量的硅表面沉积的初始反应:密度泛函理论研究
机译:金属电极氮化铌和铌氮化硅薄膜的原子层沉积
机译:与在硅和二氧化钛基板上沉积氮化铟薄膜有关的气体表面反应。
机译:氮化硅薄膜的原子层沉积:近期进展挑战和前景的回顾
机译:氮化硅薄膜原子层沉积前体的比较研究
机译:氧化欠电位沉积硫的薄层电化学研究及其在Cds电化学原子层外延沉积中的应用。 2. sTm研究。 (重新公布新的可用性信息)