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合成多晶硅原料三氯氢硅的方法

摘要

本发明公开了一种合成多晶硅原料三氯氢硅的方法,该方法包括以下步骤:A)硅粉用干燥的氯化氢气体输送到三氯氢硅合成炉;B)反应的氯化氢按比例从三氯氢硅合成炉底部输入合成炉内,合成炉中同时加入适量氢气和四氯化硅;C)温度控制在280~310℃,硅粉和氯化氢发生反应,生成包括有三氯氢硅和四氯化硅的混合气体;D)除去粉尘及高氯硅烷的混合气体,经水冷和隔膜压缩机加压后,再用-40℃冷媒将三氯氢硅和四氯化硅冷凝为液体,其中,分离出包含H2、HCl的不凝气体。该方法可将三氯氢硅收率从82%提高88%以上。

著录项

  • 公开/公告号CN101279734A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-10-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广州吉必盛科技实业有限公司;

    申请/专利号CN200810028426.2

  • 发明设计人 王跃林;刘莉;龙成坤;

    申请日2008-05-30

  • 分类号C01B33/107(20060101);

  • 代理机构44224 广州华进联合专利商标代理有限公司;

  • 代理人秦雪梅;万志香

  • 地址 510450 广东省广州市广花一级公路塘贝段

  • 入库时间 2023-12-17 20:49:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-05

    专利权的转移 IPC(主分类):C01B33/107 登记生效日:20200416 变更前: 变更后: 申请日:20080530

    专利申请权、专利权的转移

  • 2010-06-02

    授权

    授权

  • 2008-12-03

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-10-08

    公开

    公开

说明书

技术领域

本发明涉及一种化工产品的合成方法,特别是一种高效节能合成多晶硅原料三氯氢硅的方法。

背景技术

三氯氢硅(HSiCl3)是多晶硅主要原材料,目前随着国内外多晶硅市场需求的高速增长,国内多晶硅生产规模迅速扩大,国内对三氯氢硅的需求增长迅速。但目前国内的工艺仅限于小规模生产,一般单套规模为2~3千吨级,合成炉直径在800mm以内,传热效率不高,三氯氢硅收率低于82%,四氯化硅等高沸物收率高,尾气水洗方式排空,造成资源浪费。

发明内容

本发明需要解决的技术问题是提供一种高效节能的、规模化的合成多晶硅原料三氯氢硅的方法。

解决上述技术问题的技术方案如下:

一种合成多晶硅原料三氯氢硅的方法,包括以下步骤:

A)硅粉通过管道用气体输送至硅粉仓,再加入硅粉烘粉炉,用干燥的氯化氢输送到三氯氢硅合成炉;

B)反应的氯化氢按比例(氯化氢与硅粉的摩尔比:2~2.5∶1)从三氯氢硅合成炉底部输入合成炉内,合成炉中同时加入适量氢气和四氯化硅,氢气和通入的反应氯化氢的摩尔比:1∶10~15,四氯化硅与通入的反应氯化氢的摩尔比:1∶8~10;

C)合成炉中温度控制在280~310℃,硅粉和氯化氢发生反应,生成包括有三氯氢硅和四氯化硅的混合气体;该混合气体经沉降、分离、过滤后除去粉尘及高氯硅烷的混合气体,其中,得到的硅粉再利用干燥的氯化氢气体输送到合成炉;

D)除去粉尘及高氯硅烷的混合气体,经水冷和隔膜压缩机加压后,再用-40℃冷媒将三氯氢硅和四氯化硅冷凝为液体。

反应方程式如下:

Si+3HCl=SiHCl3+H2    (1)

Si+4HCl=SiCl4+2H2    (2)

Si+2H2+3SiCl4=4SiHCl3    (3)

所述合成多晶硅原料三氯氢硅的方法,还包括以下步骤:包含H2、HCl的不凝气体利用变压吸附工艺分离出H2,H2经尾气洗涤塔洗涤后放空;HCl气体再通过回收压缩机,回收后的氯化氢再与硅粉重新用于合成反应。

其中,所述氯化氢优选是采用液化后的氯气为原料与氢气合成的,可以大大降低了碳、磷等有机元素含量,保证三氯氢硅产品的纯度,特别适合用于多晶硅的制备。

汽化后四氯化硅与氯化氢混合后通入,干燥的氢气从直接合成炉底部通入。其中,四氯化硅与通入的反应氯化氢的摩尔比:1∶8~10,氢气和通入的反应氯化氢的摩尔比:1∶10~15,所述合成多晶硅原料三氯氢硅的方法,合成炉中同时加入适量氢气和四氯化硅,有利于提高三氯氢硅的收率,降低产品的单耗和能耗,同时带走系统生成的部分热量,起到冷却效果。

生成的三氯氢硅和四氯化硅等混合气体经沉降器、旋风分离器分离后,利用干燥的氯化氢气体将回收的硅粉输送到合成炉。除去粉尘及高氯硅烷的混合气体,经水冷和隔膜压缩机加压后,再用-40℃冷媒将三氯氢硅和四氯化硅冷凝为液体。含有H2、HCl等的不凝气体利用变压吸附工艺分离出H2,H2经尾气洗涤塔洗涤后放空,HCl等气体再通过回收压缩机,压缩冷凝后的凝液为三氯氢硅及四氯化硅,不凝液为氯化氢,回收后的氯化氢再与硅粉重新用于合成反应。

反应用的氯化氢采用液化后的氯气为原料与氢气合成,可以大大降低了碳、磷等有机元素含量,保证三氯氢硅产品的纯度,特别适合用于多晶硅的制备。从尾气回收的氯化氢经过干燥后返回合成系统,形成循环,节约资源,既提高了三氯氢硅的收率,又降低了能源消耗。

本发明在合成炉中同时加入SiCl4和氢气,SiCl4的加入抑制了反应式(2)的进行,降低四氯化硅的收率,保证三氯氢硅的含量。氢气的加入有利于反应(3)的进行,提高三氯氢硅的收率。此外硅粉和氯化氢的反应是放热反应,要及时移走热量,保证反应温度介于280~310℃之间,否则会导致有各种氯硅烷的产生,包括四氯化硅、二氯二氢硅等物质,该技术同时通入四氯化硅和氢气,可带走系统生成的部分热量,起到冷却效果,将三氯氢硅收率从82%提高87%以上。

附图说明

图1是本发明合成多晶硅原料三氯氢硅的方法的流程图。

具体实施方式

实施例1:

参见工艺流程图1。

原料硅粉以罐车运入,在氮气的保护下通过管道将其输送到硅粉原料仓。通过星型加料器把原料仓中的硅粉加入到仓式气力输送泵中,由仓式气力输送泵将硅粉按1200公斤/小时(约4.29万摩尔/小时)的速率连续送入单体合成装置的烘粉炉,且在硅粉烘粉炉内进行干燥。

在烘粉炉经热氮气烘干后的合格硅粉用760标准立方米/小时(约3.39万摩尔/小时,氯化氢与硅粉的摩尔比约为0.78)100℃的干燥的氯化氢气体输送加料到合成反应器。

反应氯化氢采用液化后的氯气为原料与氢气合成。2300标准立方米/小时(约10.27万摩尔/小时)氯化氢从三氯氢硅合成炉底部输入合成炉内,反应氯化氢与硅粉的摩尔比约为2.38.合成炉中同时加入氢气和四氯化硅。四氯化硅在100℃下汽化后,按摩尔比n四氯化硅/n反应氯化氢=1/9的混合比例与反应氯化氢充分混合,然后连续稳定输送到合成炉底部输入合成炉内。干燥后的氢气按摩尔比n氢气/n反应氯化氢=1/12比例从直接合成炉底部通入。

合成炉内,温度控制在290℃左右,硅粉和氯化氢发生反应,生成三氯氢硅和四氯化硅等混合气体,三氯氢硅与四氯化硅的摩尔比7~7.5∶1。生成的混合气体,经沉降器、旋风分离器等分离后除去粉尘及高氯硅烷,其中得到的未反应硅粉再利用干燥的氯化氢气体输送到合成炉。除去粉尘及高氯硅烷的混合气体,经水冷和隔膜压缩机加压后,再用-40℃冷媒将三氯氢硅和四氯化硅冷凝为液体,其中,主要含有H2、HCl等的不凝气体则利用变压吸附工艺分离出H2,H2经尾气洗涤塔洗涤后放空,HCl等气体再通过回收压缩机,回收后的氯化氢再与硅粉重新用于合成反应。制得的三氯氢硅收率88%。

实施例2

硅粉按1200公斤/小时的速率连续送入单体合成装置的烘粉炉;输送用的氯化氢气体温度为100℃,用量为900标准立方米/小时,干燥的氯化氢与输入的硅粉摩尔比约为:0.94∶1;反应用的氯化氢为2100标准立方米/小时,反应氯化氢与硅粉的摩尔比约为2.18;四氯化硅和反应用的氯化氢的混合比例为:n四氯化硅/n氯化氢=1/8.5;干燥后的氢气按摩尔比n氢气/n氯化氢=1/11比例从直接合成炉底部通入。其它参数和制备步骤不变,最后制得的三氯氢硅收率88%。

实施例3

硅粉按1200公斤/小时的速率连续送入单体合成装置的烘粉炉;输送用的氯化氢气体温度为100℃,用量为550标准立方米/小时,输入的硅粉与干燥的氯化氢摩尔比约为:0.56∶1;反应用的氯化氢为2400标准立方米/小时,反应氯化氢与硅粉的摩尔比约为2.48;四氯化硅和反应用的氯化氢的混合比例为:n四氯化硅/n氯化氢=1/9.8;干燥后的氢气按摩尔比n氢气/n氯化氢=1/14.5比例从直接合成炉底部通入。其它参数和制备步骤不变,最后制得的三氯氢硅收率87%。

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