Numerical Analysis of the Chemical Vapor Deposition of Polysilicon in a Trichlorosilane and Hydrogen System

机译：边界层对三氯硅烷和氢气体系中多晶硅化学气相沉积的影响

机译：化学气相沉积过程中多晶硅沉积特性的数值模拟

机译：在纤薄的垂直冷壁化学气相沉积反应器中，用于评估二氯硅烷与三氯硅烷与三氯硅烷之间的气体运动差异的石英晶体微稳定

机译：三氯硅烷和氢气系统中多晶硅化学气相沉积的数值分析

机译：ha-硅-硼-氯-氢系统中两相硼化物的热化学建模和化学气相沉积。

机译：通过气相沉积合成的明确定义的超薄二硒化钼沉积物中的氢化原位拉曼分析

机译：三氯氢硅烷体系中多晶硅的化学气相沉积模型

机译：用于控制化学气相沉积设备的总设备预测和分析系统以及使用相同方法控制化学气相沉积设备的方法

机译：化学汽相沉积系统，化学汽相沉积系统的布置和化学汽相沉积方法

机译：用于化学气相沉积的系统，结构，系统，化学气相沉积和化学气相沉积方法。