首页> 中国专利> 提高GaN基pin结构性能的紫外探测器及制作方法

提高GaN基pin结构性能的紫外探测器及制作方法

摘要

一种提高GaN基pin结构性能的紫外探测器,其特征在于,器件结构包括:一衬底;一成核层,该成核层制作在衬底上;一N型欧姆接触层,该N型欧姆接触层制作在成核层上;一有源层,该有源层制作在欧姆接触层上面的中间;一P型欧姆接触层,该P型欧姆接触层制作在有源层上;P型欧姆接触电极,该P型欧姆接触电极为点状结构或环形结构,制作在P型欧姆接触层上面;一N型欧姆接触电极,该欧姆电极为点状结构或环形结构,制作在N型欧姆接触层上面。

著录项

  • 公开/公告号CN101101934A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-01-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN200610111261.6

  • 申请日2006-08-17

  • 分类号H01L31/105;H01L31/0224;H01L31/18;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人汤保平

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2023-12-17 19:37:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-07-15

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2008-02-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-01-09

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号