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制造高到低和低到高反射比型光盘介质的方法

摘要

一种制造高到低反射型和低到高反射型的光盘介质的方法同时将高到低反射型的光盘介质的未记录区域的反射比和低到高反射型的光盘介质的已记录坑的反射比设置在指定反射比范围内。光盘驱动器可以再现同时来自这些光盘介质的数据,而不会改变对信号处理系统的设置。

著录项

  • 公开/公告号CN1750133A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-03-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日本电气株式会社;

    申请/专利号CN200510092166.1

  • 发明设计人 山中丰;

    申请日2005-08-22

  • 分类号G11B7/00;G11B7/24;G11B7/16;G11B20/10;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人朱进桂

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 17:03:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2008-03-19

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2006-05-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-03-22

    公开

    公开

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