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SiC单晶生长用坩埚、SiC单晶的制造方法及SiC单晶制造装置

摘要

本发明涉及SiC单晶生长用坩埚和使用了该SiC单晶生长用坩埚的SiC单晶的制造方法及SiC单晶制造装置。本发明的SiC单晶生长用坩埚具备容纳SiC原料的原料容纳部和支承在所述原料容纳部的上方配置的晶种的晶种支承部,所述原料容纳部具有内面朝向下方逐渐变细的缩窄部。

著录项

  • 公开/公告号CN111424311A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昭和电工株式会社;

    申请/专利号CN202010019974.X

  • 发明设计人 藤川阳平;

    申请日2020-01-08

  • 分类号

  • 代理机构北京市中咨律师事务所;

  • 代理人张轶楠

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 10:41:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B23/00 申请日:20200108

    实质审查的生效

  • 2020-07-17

    公开

    公开

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