具有阶梯式渐变折射率分离限制异质结构的激光设备

摘要

根据一些实施例，本公开内容的实施例涉及具有阶梯式渐变折射率分离限制异质结构(SCH)的激光设备。一个实施例包括衬底区域以及与该衬底区域相邻的有源区域。有源区域包括SCH层，其包括第一部分和与第一部分相邻的第二部分。使第一部分的成分渐变，以在从多量子阱(MQW)到激光设备结的p侧的距离上提供第一导带能量增加。使第二部分的成分渐变以在从MQW到p侧的距离上提供第二导带能量增加。第一导带能量增加不同于第二导带能量增加。描述和/或要求保护了其他实施例。