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公开/公告号CN111334861A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-06-26
原文格式PDF
申请/专利权人 哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司;
申请/专利号CN202010258442.1
发明设计人 赵丽丽;范国峰;袁文博;刘德超;张胜涛;
申请日2020-04-03
分类号
代理机构哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙);
代理人桑林艳
地址 150000 黑龙江省哈尔滨市南岗区哈西大街与学府四道街交汇处第40栋-1-2层12号
入库时间 2023-12-17 09:33:57
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-21
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B29/40 申请日:20200403
实质审查的生效
2020-06-26
公开
机译: 金属有机化学气相沉积法,高质量N面GaN,InN和AlN及其合金的异质外延生长方法
机译: 金属有机化学气相沉积法制备高品质N面Ga,In和AlN及其合金的异外延生长方法
机译:一种快速敏感的LC-MS / MS / MS法,用于使用一种样品制备方法和HILIC色谱法测量人尿和血浆中氟霉素
机译:一种简单直接的原子吸收光谱法,用于直接测定干燥血斑中Hg和使用各种微内采样装置制备的干燥尿料斑点
机译:一种用于猪模型的血栓制备新方法,用于评估血栓切除装置。
机译:一种制备具有良好耐蚀性的AlN /渗铝涂层的一步法胶结方法
机译:通过热线化学气相沉积在低温下在多晶硅籽晶层上外延生长硅。
机译:通过金属有机化学气相沉积在氮化蓝宝石上生长的高质量AlN外延层
机译:用于制备MOF薄膜的先进制造方法:液相外延方法符合旋涂法
机译:低压金属有机化学气相沉积法研究基面蓝宝石和siC衬底上alN和GaN层初始生长的微观结构比较