公开/公告号CN110892328A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-03-17
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社尼康;
申请/专利号CN201880027134.9
发明设计人 丹尼尔·基恩·史密斯;大卫·M·威尔森;
申请日2018-04-24
分类号G03F7/20(20060101);G02B17/06(20060101);G21K1/06(20060101);
代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;
代理人胡林岭
地址 日本东京
入库时间 2023-12-17 07:04:34
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-10
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20180424
实质审查的生效
2020-03-17
公开
公开
机译: 用于EUV投影曝光设备的照明系统,具有照明系统的EUV投影曝光设备和用于操作EUV投影曝光设备的方法
机译: 具有扁平1D图案掩模的照明系统,用于EUV-曝光工具
机译: 一维图案弯曲的照明系统,用于EUV曝光工具