用于EUV曝光工具的具有弯曲一维图案化掩模的照明系统

摘要

一种反射系统具有参考轴且包括反射图案源(承载实质上一维图案)以及两个光学反射镜的组合，所述两个光学反射镜依序设置以将入射于第一光学组件上的EUV辐射转移至图案源上，图案源的实质上一维图案设置于弯曲的表面中。在一种情形中，此种组合包括仅有两个光学反射镜(每一光学反射镜可含有多个构成组件)。所述组合相对于所述图案源设置成固定的空间及光学关系，且表示一维极紫外线曝光工具的照明单元(IU)，所述一维极紫外线曝光工具另外包括(包括投影光学子系统，所述投影光学子系统被配置成在图像平面上利用仅有两束辐射形成所述图案源的光学图像。所述仅有两束辐射在所述图案源处起源于被转移至所述图案源上的所述极紫外线辐射。