光掩模制造方法、描绘装置、光掩模检查方法及检查装置

摘要

光掩模制造方法、描绘装置、光掩模检查方法及检查装置。本发明提供在LSI和TFT-LCD等制造中能够高精度地制造TFT等电子器件的图案的光掩模的制造方法，为此利用高度测定单元(12)来测定配置在描绘机的工作台(10)上的光掩模坯体(13)的表面形状变形，通过描绘数据生成单元(15)，针对由该表面形状的变形因素中在曝光装置中使用光掩模时消失的变形因素所引起的描绘偏差，校正设计描绘数据来得到预定描绘数据。