法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-03-05
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/26 申请日:20180727
实质审查的生效
2019-02-05
公开
公开
机译: 用于制造光掩模,光刻设备,制造显示装置的方法,光掩模基板的检查方法和光掩模衬底的检查方法
机译: 透射测量仪器,光掩模透射检查装置,光透射检查方法,光掩模制造方法,图案转移方法和光掩模产品
机译: 光掩模的制造方法,绘图装置,显示装置的制造方法,光掩模的基板检查方法及光掩模的基板检查装置