首页> 中国专利> 一种Si/NiO:Ag异质pn结二极管

一种Si/NiO:Ag异质pn结二极管

摘要

本发明公开了一种Si/NiO:Ag异质pn结二极管,至少包括pn结和欧姆接触电极,所述pn结由n型Si衬底上生长p型NiO:Ag薄膜而得到的异质pn结。本发明利用磁控溅射工艺在n型Si衬底上制备p型NiO:Ag薄膜最后采用磁控溅射或热蒸发法在pn结上制作电极。本发明中异质pn结二极管具有较高的反向击穿电压、较大的正向电流密度,而且其制备方法工艺简单、成本低廉。

著录项

  • 公开/公告号CN104201209A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-12-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津职业技术师范大学;

    申请/专利号CN201410257437.3

  • 发明设计人 李彤;王达夫;邓学松;

    申请日2014-06-11

  • 分类号H01L29/861;H01L29/267;H01L21/329;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 300222 天津市津南区大沽南路1310号

  • 入库时间 2023-12-17 03:36:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-07

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L29/861 申请公布日:20141210 申请日:20140611

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2015-01-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/861 申请日:20140611

    实质审查的生效

  • 2014-12-10

    公开

    公开

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