首页> 中国专利> 一种在单晶ZnO衬底上外延生长大面积单晶ZnS薄膜的方法

一种在单晶ZnO衬底上外延生长大面积单晶ZnS薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种在单晶ZnO衬底上外延生长大面积单晶ZnS薄膜的方法,该方法包括以下步骤:(1)将硫化锌粉末、单晶ZnO衬底放入双温区管式炉中;(2)打开机械泵,对管式炉抽真空,充入保护气体;(3)设定升温程序,反应后自然降温;(4)取出样品。该方法操作简单、可控性强、重复性高,制备的ZnO/ZnS异质结薄膜具有优良的异质外延结构,在光电探测器、太阳能电池、光催化等领域具有重要的研究价值和广泛的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN104178815A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-12-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院理化技术研究所;

    申请/专利号CN201410405907.6

  • 发明设计人 孟祥敏;王磊;黄兴;夏静;黄奔;

    申请日2014-08-18

  • 分类号C30B29/48;C30B25/18;C30B29/64;

  • 代理机构北京正理专利代理有限公司;

  • 代理人张文祎

  • 地址 100190 北京市海淀区中关村东路29号

  • 入库时间 2023-12-17 02:19:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-01-19

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C30B29/48 申请公布日:20141203 申请日:20140818

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2014-12-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B29/48 申请日:20140818

    实质审查的生效

  • 2014-12-03

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号