法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-01-19
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C30B29/48 申请公布日:20141203 申请日:20140818
发明专利申请公布后的驳回
2014-12-31
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B29/48 申请日:20140818
实质审查的生效
2014-12-03
公开
公开
机译: 表面改性单晶SiC衬底,具有外延生长层的单晶SiC衬底,半导体芯片,用于物种衬底的单晶SiC生长和单晶生长层多晶SiC衬底的制造方法
机译: 单晶碳化硅的液相外延生长方法,单晶碳化硅衬底的制造方法和单晶碳化硅衬底
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