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一种防止晶圆测试中针痕偏移的调整系统以及调整方法

摘要

本发明提供一种防止晶圆测试中针痕偏移的调整系统以及调整方法。所述调整系统包括:针测机,包括用于吸附待测晶圆的承载台;探针卡,包括探针,所述探针用于接触所述晶圆的若干晶粒上的焊盘,在所述焊盘的表面上形成针痕;以及控制器。所述调整方法包括步骤:将晶圆吸附在针测机的承载台上;从所述晶圆的多个晶粒中选取若干晶粒;通过探针卡的探针接触所述若干晶粒上的焊盘,在所述焊盘的表面上形成针痕;通过控制器对形成的针痕进行检查,根据检查结果判断所述针痕是否发生偏移,如果发生偏移,则计算所述针痕所处的晶粒的高度补偿值;以及通过所述控制器根据所述高度补偿值调整所述针测机的承载台的水平度,以防止晶圆测试中针痕偏移。

著录项

  • 公开/公告号CN110187259A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 德淮半导体有限公司;

    申请/专利号CN201910500465.6

  • 发明设计人 周杰;熊望明;田茂;

    申请日2019-06-10

  • 分类号G01R31/28(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人吴敏

  • 地址 223302 江苏省淮安市淮阴区长江东路599号

  • 入库时间 2024-02-19 13:45:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01R31/28 申请日:20190610

    实质审查的生效

  • 2019-08-30

    公开

    公开

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