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确定光刻掩模焦点位置的方法和执行这种方法的度量系统

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为了确定光刻掩模(5)的焦点位置，记录不含将要成像结构的测量区域的焦点堆叠体并且评估记录的图像的散斑图案。

著录项

公开/公告号CN110174816A

专利类型发明专利
公开/公告日2019-08-27

原文格式PDF
申请/专利权人卡尔蔡司SMT有限责任公司;
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申请/专利号CN201910135820.4
发明设计人 M.科赫;D.黑尔韦格;R.卡佩利;M.迪茨尔;
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申请日2019-02-21
分类号
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人王蕊瑞
地址德国上科亨
入库时间 2024-02-19 12:50:05

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-09-20

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/84 申请日:20190221

实质审查的生效
2019-08-27

公开

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1. 确定光刻掩模焦点位置的方法和执行这种方法的度量系统 [P] . 中国专利： CN110174816A . 2019-08-27
2. 用于确定在激光加工系统中激光射束的焦点位置的装置、具有该装置的激光加工系统和用于确定在激光加工系统中激光射束的焦点位置的方法 [P] . 中国专利： CN111247403A . 2020-06-05
3. A method of determining the focus position of a lithography mask and a measurement system for performing such a method. [P] . JP6853843B2 . 2021-03-31

机译：一种确定光刻掩模的焦点位置的方法和用于执行这种方法的测量系统。
4. Method for determining a focus position of a lithography mask and metrology system for carrying out such a method [P] . DE102018202637B4 . 2021-09-23

机译：确定光刻掩模和计量系统的焦点位置的方法，用于执行这种方法
5. Method for determining a focus position of a lithography mask and metrology system for carrying out such a method [P] . KR102227293B1 . 2021-03-15

机译：用于确定光刻掩模和计量系统的焦点位置，用于执行这种方法

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