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一种槽型结型势垒肖特基二极管

摘要

本发明涉及一种槽型结型势垒肖特基二极管,包括从下至上依次设置的底层金属层、N+衬底层和N‑外延层,其中,N‑外延层的上表面设置有若干个P型离子注入区,每个P型离子注入区内部设置有凹槽,相邻P型离子注入区之间的间距从所述槽型结型势垒肖特基二极管的边缘到中心呈增大趋势,凹槽的深度从所述槽型结型势垒肖特基二极管的边缘到中心呈增大趋势;N‑外延层上设置有隔离介质层和顶层金属层,隔离介质层环绕在N‑外延层上表面的四周,顶层金属层设置在N‑外延层和隔离介质层的上表面以及凹槽的内部。本发明的槽型结型势垒肖特基二极管,在保证反向漏电流和正向导通电阻没有退化的前提下,有效抑制了局部电迁移现象的发生。

著录项

  • 公开/公告号CN110098263A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN201910458036.7

  • 申请日2019-05-29

  • 分类号H01L29/872(20060101);H01L29/47(20060101);

  • 代理机构61230 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张捷

  • 地址 710071 陕西省西安市太白南路2号

  • 入库时间 2024-02-19 12:27:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-08-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/872 申请日:20190529

    实质审查的生效

  • 2019-08-06

    公开

    公开

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