一种用于太赫兹检测的微纳测辐射热计的制备方法

摘要

本发明公开了一种用于太赫兹检测的微纳测辐射热计的制备方法，包括如下步骤：使用高纯铌靶溅射Nb5N6薄膜；在所述Nb5N6薄膜上通过深紫外曝光的方式绘制天线图形，磁控生长Au薄膜；通过电子束曝光的方式绘制微桥和电极的图形，通过反应离子刻蚀的方式刻蚀出Nb5N6薄膜微桥，再剥离出电极；通过紫外光刻的方式形成窗口，通过反应离子刻蚀方式刻蚀掉窗口中的部分SiO2和Si，形成空气腔。本发明通过减小器件微桥的尺寸来降低器件的热容和热导，提高器件灵敏度的同时还可以提高器件速度，且适用于大规模阵列器件。