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高性能铟镓锌氧基双层结构薄膜晶体管及其制备方法

摘要

本发明提供高性能铟镓锌氧基双层结构薄膜晶体管及其制备方法,能够有效减少双层薄膜中的缺陷,并显著提高迁移率和开关电流比。本发明所涉及的薄膜晶体管,从下往上依次包括:P型重掺杂硅片、二氧化硅绝缘层、铟镓锌氧薄膜层、氧化铟薄膜层以及源漏电极。方法包括:以生长有二氧化硅绝缘层的重掺杂P型硅片为基底,对铟镓锌氧复合靶材进行射频磁控溅射,同时通过掩膜工艺在基底上沉积形成铟镓锌氧薄膜;在铟镓锌氧薄膜层上对氧化铟靶材进行射频磁控溅射,通过掩膜工艺沉积形成氧化铟薄膜层,进而形成铟镓锌氧/氧化铟双沟道层;在铟镓锌氧/氧化铟双沟道层上采用热蒸发工艺,同时通过掩膜工艺制备源漏电极,即得铟镓锌氧基双层结构薄膜晶体管。

著录项

  • 公开/公告号CN109585567A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉大学;

    申请/专利号CN201811395202.5

  • 发明设计人 廖蕾;何佳威;

    申请日2018-11-22

  • 分类号H01L29/786(20060101);H01L21/363(20060101);

  • 代理机构42222 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人俞琳娟

  • 地址 430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学

  • 入库时间 2024-02-19 09:40:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/786 申请日:20181122

    实质审查的生效

  • 2019-04-05

    公开

    公开

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