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二硒化钯薄膜/n-型硅异质结光电探测器及其制备方法

摘要

本发明公开了二硒化钯薄膜/n‑型硅异质结光电探测器及其制备方法,其是以n‑型硅基底为光电探测器的基区,在其下表面设置n‑型硅基底电极,在其上表面部分区域覆盖绝缘层;在绝缘层上覆盖二硒化钯接触电极,二硒化钯接触电极的边界不超过绝缘层的边界;在二硒化钯接触电极上铺设二硒化钯薄膜,二硒化钯薄膜一部分与二硒化钯接触电极形成欧姆接触,剩余部分与n‑型硅基底表面未覆盖绝缘层的部分形成异质结。本发明的光电探测器工艺简单、成本低廉、电流开关比大、响应速度快。

著录项

  • 公开/公告号CN109449225A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-03-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 合肥工业大学;

    申请/专利号CN201811267225.8

  • 发明设计人 谢超;王迪;马梦茹;罗林保;

    申请日2018-10-29

  • 分类号H01L31/032(20060101);H01L31/109(20060101);H01L31/18(20060101);

  • 代理机构34101 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司;

  • 代理人卢敏

  • 地址 230009 安徽省合肥市包河区屯溪路193号

  • 入库时间 2024-02-19 07:36:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/032 申请日:20181029

    实质审查的生效

  • 2019-03-08

    公开

    公开

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