公开/公告号CN109298591A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-02-01
原文格式PDF
申请/专利权人 大日本印刷株式会社;
申请/专利号CN201811233402.0
申请日2013-02-15
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人吴秋明
地址 日本国东京都
入库时间 2024-02-19 07:07:36
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-03-01
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/34 申请日:20130215
实质审查的生效
2019-02-01
公开
公开
机译: 相移掩模的制造,相移掩模和使用该掩模的图案形成方法
机译: 相移掩模,使用相移掩模的图案形成方法以及具有出色尺寸均匀性且不降低集成度的电子设备的形成方法
机译: 相移掩模和使用相移掩模的抗蚀剂图案形成方法