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机译:通过ArF_i中的吸收体优化和极紫外光刻技术减轻掩模的三维诱导相效应
机译:极端紫外线光刻中新型减振相移掩模结构的建议 - (PPT)
机译:辐射引起的碳污染对极紫外掩模的印刷性能的影响。
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机译:在极紫外光刻中表征和减轻3D掩模效应