机译:衬底偏压对通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制备的类金刚石碳(DLC)和硅改性DLC膜的拉曼光谱和热稳定性的影响
机译:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术沉积的类金刚石碳(DLC)膜的纳米力学和电化学性质
机译:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术沉积类金刚石碳(DLC)薄膜的纳米力学和电化学性能
机译:使用碳氢化合物等离子体沉积类金刚石碳(DLC)膜
机译:类金刚石碳(DLC)膜沉积的数学模拟。
机译:环境气体和压力在脉冲激光沉积合成硬质类金刚石碳膜的结构中的作用
机译:等离子体电解镁型碳金刚石碳(DLC)薄膜电沉积
机译:四苯基 - 四甲基 - 三硅氧烷(Dow-Corning 704)前驱体蒸发温度对离子束辅助沉积(IBaD)合成的含硅类金刚石碳(si-DLC)涂层性能的影响