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Formation and Stability of Metallic Silicides during Ion-Beam-Mixing in the Systems of Mo/Si and Ti/Si

机译：Mo / Si和Ti / Si系统中离子束混合过程中金属硅化物的形成和稳定性

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作者
Fumiko Arimoto; Mitsuhiro Takeda; Takanori Suda; Seiichi Watanabe; Somei Ohnuki; Heishichiro Takahashi; Hiroaki Abe; Hiroshi Naramoto;
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年度 1999
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1. Formation and stability of metallic silicides during ion-beam-mixing in the systems of Mo/Si and Ti/Si [J] . Fumiko Arimoto, Mitsuhiro Takeda, Takanori Suda, Materials transactions . 1999,第5期

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2. Formation of Ti silicide nanocrystals in the amorphous interlayers in ultrahigh-vacuum-deposited Ti thin films on (001)Si [J] . T. H. Yang, K. S. Chi, L. J. Chen Journal of Applied Physics . 2005,第3期

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