机译:不均匀酸分布对线边缘粗糙度的影响-与源自化学梯度的线边缘粗糙度的关系
机译:不均匀酸分布对线边缘粗糙度的影响-与源自化学梯度的线边缘粗糙度的关系
机译:了解光酸分布均匀性和扩散性对化学放大抗蚀剂中的临界尺寸控制和线边缘粗糙度的影响
机译:化学梯度和光刻胶成分对光刻产生的线边缘粗糙度的影响
机译:极紫外光刻中掩模的粗糙度引起的线边缘粗糙度
机译:通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译:更正为“模糊的边缘看起来很模糊,而模糊的边缘看起来很锐利:梯度阈值在多尺度边缘编码模型中的作用”。 47(13)(2007)1705–1720
机译:圆孔边缘裂纹尖端附近的应力分布