Reticles; Lithography; Masking; Deposition; Multilayers; Coatings; Defects; Phase studies; Amplitudes; Reflectivity; Models; Monte Carlo method;
机译:使用EUV光发射电子显微镜检查EUVL掩模的空白缺陷和图案化掩模
机译:基于相干衍射成像方法聚焦EUV聚焦的EUV显微镜的EUV掩模缺陷评估
机译:突破性地减少EUV面膜毛坯
机译:修复EUV面膜毛坯上的天然缺陷
机译:具有掩埋缺陷的EUV光刻掩模的仿真和补偿方法。
机译:开发一种使用纤维蛋白胶修复离体猪模型胸膜缺损的有效方法
机译:极端紫外线光刻掩模坯料中相缺陷的修复