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【2h】

Repair of phase defects in extreme-ultraviolet lithography mask blanks

机译：极端紫外线光刻掩模坯料中相缺陷的修复

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Stefan P. Hau-Riege; Anton Barty; Paul B. Mirkarimi; Sherry Baker; Michael A. Coy; Masaaki Mita; Vernon E. Robertson; Ted Liang; Alan Stivers;
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年度 2004
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1. Repair of phase defects in extreme-ultraviolet lithography mask blanks [J] . Stefan P. Hau-Riege, Anton Barty, Paul B. Mirkarimi, Journal of Applied Physics . 2004,第11期

机译：修复极紫外光刻掩模坯料中的相缺陷
2. Evaluation of extreme-ultraviolet lithography mask absorber pattern on multilayer phase defect using extreme-ultraviolet microscope [J] . K. Hamamoto, N. Sakaya, M. Hosoya, Journal of Vacuum Science & Technology . 2009,第4期

机译：使用极紫外显微镜评估多层相缺陷上的极紫外光刻掩模吸收体图案
3. Surface modification of extreme-ultraviolet lithography mask blanks by e-beam [J] . Arun John Kadaksham, Thomas Laursen, Timothy Owen, Journal of microanolithography, MEMS, and MOEMS . 2011,第4期

机译：电子束对极紫外光刻掩模坯料的表面改性
4. Defect repair for extreme ultraviolet lithography (EUVL) mask blanks [C] . Stefan P. Hau-Riege, Anton Barty, Paul B. Mirkarimi, Emerging Lithographic Technologies VII . 2003

机译：极紫外光刻（EUVL）面罩毛坯的缺陷修复
5. Local area mask patterning of extreme ultraviolet lithography reticles for native defect analysis [D] . Lyons, Adam 2013

机译：用于自然缺陷分析的极紫外光刻掩模版的局部掩模图案
6. Soft X-ray varied-line-spacing gratings fabricated by near-field holography using an electron beam lithography-written phase mask [O] . Dakui Lin, Zhengkun Liu, Kay Dietrich, -1

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