Deposition; Silicon nitrides; Aluminum nitrides; Netherlands; Substrates; Etching; Nickel alloys; Plasma devices; Dutch language; Titanium alloys;
机译:使用扩展的热等离子体和衬底偏置,在低衬底温度(<150℃)下高速率(〜3 nm / s)的致密氮化硅膜沉积
机译:侧向旋转阴极电弧沉积的氮化钛/氮化铝钛多层涂层的热导率
机译:金属薄膜的相对SHG测量:金,银,铝,钴,铬,锗,镍,锑,钛,氮化钛,钨,锌,硅和铟锡氧化物
机译:脉冲激光沉积法在硅衬底上生长氮化钛纳米线及其表征
机译:氮化铝和氮化硅的低温热化学气相沉积和催化化学气相沉积
机译:通过高压和合成混合纳米晶体粉末的高压和高温烧结体系氮化钛(锡)氮化物(Aln)中的复合氮化物纳米陶瓷
机译:二甲基胺alane的金属化学气相沉积溅射氮化钛/硅衬底上沉积铝膜的结构特征