经构造以用于在基板上溅射沉积的设备、经构造以用于在基板上溅射沉积的系统和用于在基板上溅射沉积的方法

摘要

本公开内容提供了一种经构造以用于在基板上溅射沉积的设备。所述设备包括：圆柱形的溅射阴极，所述圆柱形的溅射阴极可围绕旋转轴线而旋转；和磁体组件，所述磁体组件经构造以提供在圆柱形的溅射阴极的相对侧上的第一等离子体跑道和第二等离子体跑道，其中磁体组件包括二个、三个或四个磁体，每个磁体各自具有两个极和一个或多个子磁体，其中二个、三个或四个磁体经经构造以用于产生第一等离子体跑道和第二等离子体跑道两者。