Schottky barrier devices; Guard rings; Doping; Leakage(Electrical); Gallium arsenides; Gold; Aluminum; Capacitance; Thermal stability; Transferred electron devices; Characteristic curves; Barrier heights; Surface states;
机译:后退火工艺可改善Ti / Al 4H-SiC肖特基势垒二极管中肖特基势垒高度的不均匀性
机译:后退火对4H-SiC肖特基势垒二极管中不稳定肖特基势垒高度的高阻失效修复的研究
机译:高能电子辐照对Ni / 4H-SiC肖特基二极管的肖特基势垒高度和Richardson常数的影响
机译:通过掺杂隔离(DS)技术将CMOS工艺兼容的方案将NiSi的肖特基势垒高度调整为电子
机译:肖特基器件中势垒高度调整的研究。
机译:取决于金厚度的肖特基势垒高度用于金属硅化学腐蚀中的电荷转移
机译:高能电子辐照对肖特基势垒高度和Ni / 4H-siC肖特基二极管的Richardson常数的影响