Aluminum; Etching; Fluorinated hydrocarbons; Photoresistors; Plasmas(Physics); Silicon dioxide; Ethyl radicals; Analytic functions; Concentration(Chemistry); Contours; Fluorine compounds; Holes(Openings); Ion beams; Maps; Mathematical analysis; Oxygen; Parameters;
机译:超低k相容性二氧化碳原位光刻胶灰化过程的机理研究。二。与先前的碳氟化合物等离子体超蚀刻工艺的相互作用
机译:超低k相容性二氧化碳原位光刻胶灰化过程的机理研究。二。与先前的碳氟化合物等离子体超低k蚀刻工艺的相互作用
机译:密集低压感应耦合射频放电碳氟化合物等离子体中的硅和二氧化硅蚀刻
机译:在碳氟化合物等离子体中选择性刻蚀硅期间二氧化硅(SiO / sub 2 /)表面的原位时间分辨红外光谱研究
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:腔室壁对使用循环Ar / C4F8等离子体的氟碳辅助的SiO2原子层蚀刻的影响
机译:硅和二氧化硅等离子体刻蚀的建模,模拟和多变量控制