Gallium arsenides; Semiconductor devices; Gates(Circuits); Polymethyl methacrylate; Substrates; Fabrication; Reprints;
机译:在10-70 nm金属栅双栅极晶体管上的沟道反向散射系数的实验确定
机译:低至10 nm的键合平面双金属栅极NMOS晶体管
机译:铁磁体/ 10 nm厚N型GaAs量子阱结中的自旋动力学
机译:一种14纳米SoC平台技术,具有2 sup>代的Tri-Gate晶体管,70纳米栅距,52纳米金属栅距和0.0499 um 2 sup> SRAM单元,针对低功耗进行了优化,高性能和高密度SoC产品
机译:低于100nm CMOS和低于70nm完全自对准双栅极CMOS的钨/硅锗/硅凸起单源/漏极的设计,制造和表征
机译:GaAs(001)上生长的高质量100 nm厚InSb膜具有InxAl1-xSb连续渐变缓冲层的基板
机译:使用UVIII / PMMA双层的InAlAs / InGaAs HEMT的毫米波性能,用于70nm T-Gate制造 ud
机译:矿山安全与健康管理局金属和非金属矿山安全与健康调查报告:表面非金属矿(砂和砾石)。致命机械事故,2006年10月10日。美国密歇根州公司,牛津工厂,牛津,奥克兰