机译:使用UVIII / PMMA双层的InAlAs / InGaAs HEMT的毫米波性能,用于70nm T-Gate制造 ud
机译:0.1μm栅InAlAs / InGaAs HEMT的新型T栅制造和高频性能
机译:电子向前散射对使用PMMA和UVIII双层制造的T型栅的宽度的影响的研究
机译:基于100 nm T栅极InAlAs / InGaAs InP的HEMT,fT = 249 GHz和fmax = 415 GHz
机译:使用UVIII / PMMA双层的Inalas / InGaAs Hemts的毫米波性能用于70nm T型栅极制造
机译:使用UVIII / PMMA双层的InAlAs / InGaAs HEMT的毫米波性能,用于70nm T-Gate制造 ud