Chemical vapor deposition; High temperature superconductors; Control; Digitalsystems; Automation; Real time; Growth; Films; Production engineering; Pulsed lasers; Variables; Deposition; Laser applications; Plumes; Copper oxides;
机译:控制使用常规脉冲激光沉积,混合脉冲激光沉积和固态外延制备的BiMnO_3薄膜的Bi含量,相形成和外延特性
机译:脉冲激光沉积生长Batio_3外延薄膜的激光定律控制阳离子化学计量
机译:Mn掺杂的ZnO薄膜的沉积和成分控制通过使用两个延迟等离子体羽的组合脉冲激光沉积
机译:用脉冲激光沉积作为电化学应用模型系统的激光结构和薄氧化膜的聚合物的分子设计
机译:通过脉冲激光沉积制备半金属磁性氧化物薄膜的材料物理学:控制锶铁钼氧化物和铬氧化物薄膜的晶体结构和近表面性质。
机译:脉冲激光沉积在Si(111)衬底上生长AlN外延膜的界面反应控制及其机理
机译:用原子控制脉冲激光沉积的氧化物磁性膜的研究趋势