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机译:以三(二甲基氨基)硅烷为新型单源前驱体,通过远程氢微波等离子体CVD进行碳氮化硅(SiCN)膜的制备
机译:以三(二甲基氨基)硅烷为新型单源前驱体,通过远程氢微波等离子体CVD进行碳氮化硅(SiCN)膜的制备
机译:三(二甲氨基)硅烷衍生的非晶碳氮化硅(a-SiCN)涂层的远程氢微波等离子体化学气相沉积
机译:使用(二甲基氨基)二甲基硅烷前体通过远程氢微波等离子体CVD生产的碳氮化硅膜
机译:以双-(三甲基甲硅烷基)碳二亚胺或六甲基-二硅氮烷为单源前驱体的等离子体增强CVD技术
机译:在先进材料先驱体生产中形成硅碳键的途径的应用:第一部分:作为碳化硅单源CVD前驱体的环状和线性碳硅烷的研究。第二部分:新型氟和氰基取代的聚(亚甲撑亚甲基)的合成与表征。
机译:新型金刚石薄膜合成策略:无氢的微波等离子体CVD法制备甲醇和氩气氛
机译:使用三乙基硅烷和氮气的非晶氢化碳氮化硅(a-siCN:H)薄膜的常压等离子体CVD