...
机译:使用(二甲基氨基)二甲基硅烷前体通过远程氢微波等离子体CVD生产的碳氮化硅膜
(dimethylamino)dimethylsilane precursor; film properties; film structure; remote hydrogen plasma CVD; silicon carbonitride film; CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; SINGLE-SOURCE PRECURSOR; C-N FILMS; THIN-FILMS; SICN FILMS; OPTICAL-PROPERTIES; FIELD-EMISSION; NITRIDE; HEXAMETHYLDISILAZANE; MECHANISM;
机译:使用(二甲基氨基)二甲基硅烷前体通过远程氢微波等离子体CVD生产的碳氮化硅膜
机译:(二甲基氨基)二甲基硅烷前体对碳氮化硅薄膜的远程氢微波等离子体化学气相沉积:薄膜性质的组成和结构依赖性
机译:以三(二甲基氨基)硅烷为新型单源前驱体,通过远程氢微波等离子体CVD进行碳氮化硅(SiCN)膜的制备
机译:氢气掺入对微波ECR等离子CVD制造的纳米晶硅薄膜晶体管性能的影响
机译:PECVD氢化非晶硅膜和HWCVD氢化非晶硅膜的质子NMR研究。
机译:新型金刚石薄膜合成策略:无氢的微波等离子体CVD法制备甲醇和氩气氛
机译:通过远程氢微波等离子体CVD由三乙基硅烷前体形成的非晶氢化碳化硅(a-SiC:H)膜的生长机理和化学结构:第1部分