机译:基于聚砜的非CA抗蚀剂,用于193 nm浸没式光刻:提高聚合物吸收率对灵敏度的影响
Non-chemically amplified resists; non-CAR; 193 nm immersion lithography; Polysulfone; Absorbance;
机译:基于聚砜的非CA抗蚀剂,用于193 nm浸没式光刻:提高聚合物吸收率对灵敏度的影响
机译:用于193nm浸没式光刻的高RI抗蚀剂的合理设计
机译:开发用于193 nm干法和浸没式光刻的新型抗蚀剂材料
机译:193 nm浸没式光刻技术的非CA抗蚀剂:化学结构对灵敏度的影响
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
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