机译:刻蚀沟槽的几何形状和介电材料对绝缘体上硅自开关二极管电性能的影响
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机译:适用于低折射率对比材料系统的新型多模干涉装置,具有深蚀刻的空气沟槽
机译:在45 nm间距互连线上干蚀刻低K介电材料后去除锡硬掩模的蚀刻后残留清洗液的评估
机译:光刻胶特征几何形状对ECR等离子体刻蚀HgCdTe沟槽的影响
机译:电极材料和几何形状对平行板等离子体蚀刻反应器中粒子阱的电学特性产生影响。
机译:分布式布拉格反射器对GaN基倒装芯片发光二极管电学和光学性能的影响
机译:电极材料和几何形状对平行板等离子体蚀刻反应器中粒子阱电性能的影响
机译:用于绝缘体上硅(sOI)技术的非破坏性X射线,光学和电学材料表征技术