電解硫酸によるレジスト剥離システム：半導体レジスト剥離工程の革新

摘要

半導体製造工程のレジスト剥離処理としてSPM法が広く用いられているが、大量の硫酸と過酸化水素を使用することが課題となっている。 そこで硫酸を電気分解することで過硫酸を生成し、その強力な酸化力を利用する技術を開発した。