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温聚英; 魏正英; 熊孝东; 杜军; 卢秉恒;
西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室,西安,710049;
微压印; 抗蚀剂流动; 占空比; 单双峰; 宽厚比;
机译:纳米压印脱模过程中Von Mises应力和抗蚀剂变形的分析
机译:使用以抗蚀剂为流动路径的微混合器进行扩散混合的观察和分析
机译:纳米压印光刻胶的抗蚀剂和压印的孔膜的物理化学表面相互作用。
机译:可以在248NM KRF微图案形成过程中使用的光致抗蚀剂和有机抗反射聚合物,以及由其组成的光致抗蚀剂和抗反射组合物
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