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温聚英; 魏正英; 熊孝东; 杜军; 卢秉恒;
西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室,西安,710049;
微压印; 抗蚀剂流动; 占空比; 单双峰; 宽厚比;
机译:纳米压印脱模过程中Von Mises应力和抗蚀剂变形的分析
机译:3D堆叠器件制造过程中抗蚀剂成膜中TSV的研究 - 第2部分:纳米压印转移TSV图案测量和应用
机译:纳米压印光刻胶的抗蚀剂和压印的孔膜的物理化学表面相互作用。
机译:使用具有各种微/纳米比的印模进行的紫外线纳米压印光刻的抗蚀剂填充研究
机译:用于微和纳米压印的新型有机-无机溶胶-凝胶抗蚀剂
机译:聚合物膜厚度和腔体尺寸对压花过程中聚合物流动的影响:纳米压印光刻的工艺设计规则
机译:出于光学目的,压印,纳米压印光刻原版或光敏系统中的结构转移,在光学透明的塑料表面上复制微或纳米结构,使用具有抗蚀剂的可固化浇铸树脂作为原始材料
机译:钻井过程中的微电阻分析工具以及地下井中钻井过程中的微电阻分析方法
机译:能够防止附加加热过程中回流的I线光致抗蚀剂组合物和光致抗蚀剂微粉的形成方法
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