机译:用于气隙基光学过滤器的薄PECVD氧化硅膜的热退火
Delft Univ Technol Fac EEMCS Microelect Dept Elect Instrumentat Lab NL-2628 CD Delft Netherlands;
Delft Univ Technol Fac EEMCS Microelect Dept Elect Instrumentat Lab NL-2628 CD Delft Netherlands;
Delft Univ Technol Fac EEMCS Microelect Dept Elect Instrumentat Lab NL-2628 CD Delft Netherlands;
thin-film membranes; airgap optical filters; residual stress; thermal annealing; silicon-oxide; PECVD;
机译:用于气隙基光学过滤器的薄PECVD氧化硅膜的热退火
机译:用于可调谐MEMS Fabry-Perot光学滤波器的PECVD氮化硅薄膜的机械性能的确定
机译:用于紫外可见气隙的MEMS光学滤光片的超薄氮化硅膜的设计和制造
机译:沉积和退火的PECVD POH硅薄膜的光学和光电表征
机译:氢在PECVD沉积的氮化硅薄膜中的重新分布。
机译:快速热退火对原子层沉积生长Zr掺杂ZnO薄膜的结构电学和光学性质的影响
机译:退火对D.C.和脉冲PECVD沉积的a-Si:H薄膜的电光性能的影响
机译:(111)pt基底上快速热退火锆钛酸铅薄膜的取向