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孙运涛;
嘉应学院物理系,广东,梅州,514015;
碳化硅; 热退火; 光学特性;
机译:沉积温度对非晶碳化硅薄膜光学和结构性能的影响
机译:退火对富硅非晶碳化硅薄膜光学和电子性能的影响
机译:通过快速热退火工艺提高氢化非晶碳化硅薄膜的光致发光
机译:热退火对脉冲激光烧蚀沉积非晶碳化硅薄膜光学性能的影响
机译:4H碳化硅外延膜中的薄多型夹杂物以及碳化硅的碳氢振动中心的同位素和非谐效应。
机译:通过快速热退火工艺增强氢化非晶碳化硅薄膜的光致发光
机译:冷轧Ni / Ti多层膜中的固态非晶化反应。 2.恒温加热退火处理。
机译:以非晶氧化物膜为沟道层的场效应晶体管,以非晶氧化物膜为沟道层的场效应晶体管的制造方法
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