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李岱青; 宫宝安;
不详;
退火; 离子注入; 硅; 单晶; 掺杂; 镱;
机译:低能磷注入在硅中形成非晶层的固相外延再生:中能离子散射研究
机译:低能量,高通量磷注入在Si(100)中形成非晶层的固相外延生长
机译:稀土注入的ZnO外延层的快速热退火
机译:采用低温接触注入非晶化和固相外延再生(SPER)技术的具有硅化钛衬里的超低p型SiGe接触电阻FinFET
机译:锗的非晶化和固相外延生长。
机译:稀土元素固相磁萃取中提高性能的不寻常的晶种机制
机译:C团离子注入硅的非晶化及固相外延生长
机译:通过湿法氧化沉积在si(100)上的非晶siGe层产生的外延si(1-X)GE(x)薄膜的形成
机译:基材例如绝缘体衬底上的硅的制造方法,涉及通过在薄层中注入原子种在薄层的一部分中形成表面非晶层,并使非晶层重结晶
机译:结构化掺杂区在固体上-通过在主体上施加非晶层,注入掺杂材料,熔化非晶层区域以及蚀刻
机译:用于注入集成电路生产中的半导体晶片的方法包括在衬底上施加非晶层,施加抗反射层和抗蚀剂层,构造抗蚀剂层以及注入离子
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