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机译:光辅助化学浴沉积沉积的硒化锌薄膜的退火时间的影响
Univ Free State Dept Phys ZA-9866 Phuthaditjhaba South Africa;
Univ Free State Dept Phys ZA-9300 Bloemfontein South Africa;
Nelson Mandela Univ Dept Phys ZA-6031 Port Elizabeth South Africa;
Univ Free State Dept Phys ZA-9300 Bloemfontein South Africa;
City Univ Hong Kong Dept Phys Kowloon 83 Tat Chee Ave Hong Kong Peoples R China;
Univ Free State Dept Phys ZA-9866 Phuthaditjhaba South Africa;
Zinc selenide; Thin films; PCBD; Annealing time;
机译:光辅助化学浴沉积沉积的硒化锌薄膜的退火时间的影响
机译:使用光辅助化学浴沉积技术在不同沉积时间间隔中合成硒化锌(ZnSe)薄膜的结构,形态学和光学研究
机译:热退火对化学浴沉积硒化锌薄膜性能的影响
机译:化学浴沉积和激光退火:沉积CDTE薄膜的低成本快速工艺
机译:真空沉积锡,锑化锡和硒化锌,氧化锌薄膜的电子光学研究。
机译:退火温度对化学浴镀(CBD)技术在低溶液浓度下沉积的CdS薄膜光学光谱的影响
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