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机译:ZrO2通过原子层沉积使用较少粘性的鸡尾酒CPZR [N(CH3)(2)](3)/ C7H8前体和臭氧的原子层沉积制备
Kyungpook Natl Univ Sch Elect Engn Daegu 41566 South Korea;
KRISS Vacuum Ctr Daejeon 34113 South Korea;
KRISS Vacuum Ctr Daejeon 34113 South Korea;
KRISS Vacuum Ctr Daejeon 34113 South Korea;
Kyungpook Natl Univ Sch Elect Engn Daegu 41566 South Korea;
Eugene Technol Mat Gyeonggi Do 16675 South Korea;
Hanyang Univ Inst Nano Sci &
Technol Seoul 04763 South Korea;
KRISS Vacuum Ctr Daejeon 34113 South Korea;
Atomic layer deposition; Thin film; ZrO2; Cocktail precursor; CpZr(NMe2)(3); Cycloheptatriene;
机译:ZrO2通过原子层沉积使用较少粘性的鸡尾酒CPZR [N(CH3)(2)](3)/ C7H8前体和臭氧的原子层沉积制备
机译:臭氧基原子层沉积沉积的Al2O3 / ZrO2层压膜的特性用于有机器件封装
机译:原子层沉积过程中臭氧浓度对电容器应用ZrO2薄膜性能的影响
机译:共轭聚合物的分子组件,图案化和沉积:使用层和前体聚合物电沉积方法制备的超薄膜
机译:金属膜的原子层沉积:从前驱物合成到膜沉积
机译:生长温度对使用CpZr N(CH3)2 3 / C7H8鸡尾酒前体原子层沉积制备的ZrO2薄膜的结构和电性能的影响
机译:使用CPZR N(CH3)2 3 / C7H8鸡尾酒前体采用CPZR N(CH3)2 3 / C7H8沉积物制造的ZrO2膜结构和电性能的影响