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原子层沉积系统的原理及其在ZrO2薄膜制备方面的应用

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原子层沉积系统是氧化物薄膜制备的主要手段.阐述了原子沉积的主要原理及工艺参数.利用原子层沉积系统制备了高介电常数ZrO2薄膜材料,系统研究了薄膜的电学性能.研究结果表明,原子层沉积系统制备的ZrO2薄膜具有良好的介电性能,±8V扫描电压下的漏电流密度为10-3 A·cm-2.

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来源
《安阳师范学院学报》 |2016年第2期|27-29|共3页
作者
汤振杰; 李荣;
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作者单位

安阳师范学院物理与电气工程学院,河南安阳455000;

安阳师范学院数学与统计学院,河南安阳455000;

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正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;无机质材料;
关键词
原子层沉积; 薄膜; 高介电常数材料;

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