机译:使用CPZR N(CH3)2 3 / C7H8鸡尾酒前体采用CPZR N(CH3)2 3 / C7H8沉积物制造的ZrO2膜结构和电性能的影响
机译:ZrO2通过原子层沉积使用较少粘性的鸡尾酒CPZR [N(CH3)(2)](3)/ C7H8前体和臭氧的原子层沉积制备
机译:工艺温度对三(二甲基氨基)环戊二烯基锆前体原子层沉积ZrO2薄膜结构和电性能的影响
机译:原子层沉积温度对ZnO和氟掺杂ZnO薄膜生长取向,形态和电,光学和带结构性能的影响
机译:液相Ru(CO)_3(C6H8)前驱体原子层沉积生长的钌膜的电和结构性质
机译:金属有机化学气相沉积和原子层沉积方法,用于从二烷基酰胺前体中生长ha基薄膜,用于高级CMOS栅极堆叠应用
机译:生长温度对使用CpZr N(CH3)2 3 / C7H8鸡尾酒前体原子层沉积制备的ZrO2薄膜的结构和电性能的影响
机译:原子层沉积制备的掺钛ZnO薄膜的结构,电学和光学性质